Описание
Пост вакуумный универсальный ВУП-7 предназначен для исследовательских работ по распылению металлов, полупроводников и диэлектриков с помощью: DC и RF магнетронов, термического и электронно-лучевого испарителей.
| Система откачки | 01 | 02 | 03 | 04 | 05 | 06 | 07 | 08 | 09 | 10 | 11 | 12 | 13 | 14 | 15 |
| Диффузионный насос, 220 V |
+ | + | + | + | + | ||||||||||
| Турбомолекулярный насос, 220 V |
+ | + | + | + | + | ||||||||||
| Турбомолекулярный насос, 115 V |
+ | + | + | + | + | ||||||||||
| Устройства испарения | 01 | 02 | 03 | 04 | 05 | 06 | 07 | 08 | 09 | 10 | 11 | 12 | 13 | 14 | 15 |
| Магнетрон DC | + | + | + | + | + | + | + | + | + | ||||||
| Магнетрон RF | + | + | + | + | + | + | + | + | + | + | + | + | |||
| Электронно-лучевой испаритель |
+ | + | + | + | + | + | + | + | + | + | + | + | |||
| Термический испаритель | + | + | + | + | + | + | |||||||||
| Держатель подложек с нагревателем |
+ | + | + | + | + | + | + | + | + | + | + | + | + | + | + |
| Ионная очистка объекта |
+ | + | + | + | + | + | + | + | + | + | + | + |
Дополнительные устройства по требованию заказчика:
- кварцевый измеритель толщины;
- ионно-лучевые источники.
Преимущества
- получает пленки металлов, сплавов, полупроводников, многокомпонентной керамики;
- производит распыление с одного-двух магнетронов одновременно или последовательно;
- позволяет комбинировать процессы распыления с различных физических источников без разгерметизации рабочего объема;
- позволяет нагревать и стабилизировать температуру подложки;
- позволяет вращать держатель подложки с заданой скоростью;
- позволяет производить ионную очистку образца;
- увеличеные габариты рабочего объема позволяют дополнительно размещать в нем несколько физических источников и средств контроля за процессами напыления;
- высокая скорость осаждения;
- получение особо чистых пленок;
- высокая адгезия пленок и подложки;
- возможность изменения структуры и свойств пленок;
- возможность распыления нескольких материалов без разгерметизации объема;
- низкая пористость пленок;
- небольшое тепловое воздействие на обрабатываемую поверхность;
- высокая энергетическая эффективность процессов.
Предельное остаточное давление в рабочем объеме, Pa:
|
2×10 -4 6×10 -4 |
|
| Диаметр мишени магнетрона, mm | 52 | |
Блок питания DC:
|
1000 500 |
|
Блок питания RF:
|
13,56 500 |
|
Блок питания ЭЛИ:
|
4 200 20 |
|
Блок термического испарения:
|
200 | |
| Температура нагрева подложки, °C | 350 | |
| Скорость вращения подложки, rpm | 5 — 15 | |
| Система напуска и стабилизации давления газа | одноканальная (пьезонатекатель) | |
| Размеры рабочего объема, mm | 400×400×400 | |
| Масса прибора, kg, не более | 380 | |
Габаритные размеры, mm
|
690×610×1620 635×610×1150 |
|
| Электрическое питание, V | 380 / 220 | |
| Потребляемая мощность, kVA | 4,5 | |
Отзывы
Отзывов пока нет.