Описание
Ионно-лучевая станция для финишной полировки и очистки твердых образцов Gentle Mill предназначена для проведения финишной полировки и очистки твердых образцов методом ионной полировки лучом высокой энергии.
Основные преимущества
- не вносит примесей и инородных включений
- не меняет структуры образцов
- образцы не претерпевают механических нагрузок
Станция имеет полностью компьютеризированное управление с простым и понятным интерфейсом, обеспечивающим ручное или программное обеспечение. Все параметры процесса могут быть записаны или запрограммированы с дальнейшим их воспроизводством. Это обеспечивает возможность автоматизации процесса программирования с минимальным вмешательством оператора.
Технические характеристики
- Энергия ионов: 100 – 2000 эВ (регулируемая)
- Плотность тока источника ионов: макс 10 мА/см2
- Ток пучка: 7 – 90 мкА (регулируемый)
- Диаметр пучка: 750 – 1200 мкм
- Скорость полировки: 28 мкм/ч (для Si при 2000 эВ)
- Угол наклона стола объектов: 0 – 45 (электрически управляемый с точностью 0,1 градуса)
- Используемый газ: аргон
- Управляемый клапан подачи газа с мониторингом давления
- Pheiffer – вакуумная система безмасляной откачки на базе диафрагменного и ТМН насосов
- Автоматизированный процесс откачки
- Встроенный промышленный компьютер
- Легкий в понимании графический интерфейс
- Контроль всех параметров
- Высокая степень автоматизации всего процесса полировки
- Программируемый и ручной режимы работы
- Потребляемая мощность: 220 – 240 В; 1,5 А / 50 Гц
Отзывы
Отзывов пока нет.